

取扱装置・製品
ASM(CVD)


PE-CVD装置 Eagel10
S/Nを継承した中古装置となりますが、最新(Ver.6)仕様の部品に一新して一から生産する為、高い品質を保ちます。
SiCウエハ搬送仕様等、柔軟にカスタマイズが可能です。

TEMPRESS(ALD)


株式会社アプトシステムズは、
Tempress社と装置立上げ・メンテナンス業務に関する業務委託契約を締結しました。(2014年2月)
SALD(ALD)


株式会社アプトシステムズは、SALD社と保守・メンテナンス業務に関する業務委託契約を締結しました。(2024年)
SALD B.V.社は、オランダに拠点を置く先進的な半導体製造装置メーカーで、特に空間原子層堆積(Spatial ALD)技術の開発と商業化に特化しています。同社は、この技術を利用して、次世代の電子デバイスや太陽電池、ディスプレイ、バリアコーティングなどの様々な産業分野向けに高精度な薄膜成長装置を提供しています。SALD B.V.は、迅速で大量生産に適した薄膜堆積プロセスを実現することで、産業の革新に貢献しています。

Spatial ALD装置は、従来の原子層堆積(ALD)技術を大幅に高速化したものです。通常のALDプロセスでは、反応ガスを順番に投入して成膜するのに対し、Spatial ALDでは、基板が異なる反応ガスが供給されるゾーンを通過することで、連続的に膜が堆積されます。この技術により、従来のALDと同じレベルの高精度・均一な薄膜を、非常に高いスループットで形成することが可能です。これにより、大規模な生産ラインにも対応でき、特に大面積基板やロール・トゥ・ロール製造プロセスでの応用が期待されています。
SALD B.V.の装置は、従来の技術に比べて堆積速度が飛躍的に向上しているため、コスト効率の良い量産が求められる分野において、非常に有効なソリューションを提供しています。